半导体行业

一、行业概述：

半导体行业主要分为集成电路、光伏和半导体LED等。

二、废气分类：

在半导体制造厂，依照系统废气排放可分为：一般排气(GEX)、酸性排气 (SEX)、碱性排气 (AEX)和有机排气 (VEX)

三、废气处理方案：

1、一般排气系统：

一般排气 (GEX)系统也称为热排气系统 ，生产过程中一些设备局部会产生大量的热或产生会对高洁净度生产环境造成影响的含尘无害气体。为了满足半导体制程对环境温湿度((22±1)℃，(45±5)％)和洁净度的极高要求 ，可将此种废气通过风管系统进行收集，然后以风机抽取并排放。虽然一般排气用于抽取设备的含尘排放，但由于一般排气系统抽取的气体直接来自洁净室内，且设备含尘排放浓度很低，因此在总风管处检测的结果仍为洁净级别，属于室温范围。因此 GEX可以直接排放至大气环境 ，不需做任何处理 ，为无害排放。

2、酸碱废气处理系统：

半导体制造中产生的酸性和碱性废气采用分别收集、分别处理的方法，处理设备和处理原理基本相同。对于含有 酸性／碱性物质的废气 ，大都采用大型洗涤式中央废气处理系统进行处理。由于半导体制造工作区域离中央废气处理系统距离较远 ，因此部分酸性／碱性废气在输送至中央废气处理系统前，常因气体特性导致在管路中结晶或粉尘堆积，造成管路堵塞后导致气体外泄，严重者甚至引发爆炸，危害现场工作人员的工作安全。因此在工作区域需配置适合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处理 ，之后再排入中央处理系统，而一些特殊的废气，包括剧毒、自燃、易爆等废气则需要先通过干式洗涤塔等设备通过吸附或氧化／燃烧等方法就地处理，之后再排人中央废气处理系统 。

3、有机废气处理系统：

半导体制造过程中排放的含有有机成分的废气通常采用直接焚烧、活性炭吸附、生物氧化等方法进行处理。只有较高浓度的有机废气才建议直接焚烧；活性碳吸附的方法，只有极低浓度的有机废气才建议使用。但由于其材料特性，存在易燃烧、水分敏感度高、脱附后残留负荷高等缺点，中高浓度基本不再使用；半导体制造的有机废气排放特点是浓度较低，但排风量较大，因此必须考虑将有机废气浓缩后再进行焚烧处理。沸石浓缩转轮系统和焚化炉焚化系统的组合可以很好地解决这一问题。